日本engis超精密拋光技術(shù)

日本Engis超精密拋光技術(shù)可說是集合多年的加工經(jīng)驗及無數(shù)次的失敗而累積起來，并首先將鉆石具有拋光之特性加以研究開發(fā)，成功地應(yīng)用在精密加工，并在世界各國建立高度信賴感及實績，成為全世界超精密拋光之先驅(qū)，為了提供全方位拋光加工服務(wù)，領(lǐng)先開發(fā)拋光定盤平面之自動修整器功能，以提升奈米拋旋光性能。

   鑒于亞洲新興科技工業(yè)興起，并在集團(tuán)的雄厚資金及優(yōu)異技術(shù)支持下，于1983年4月在日本橫濱市成立了日本Engis，并且設(shè)立鉆石液研發(fā)及調(diào)配生產(chǎn)工廠，能夠供給齊全的鉆石種類，而且可以依照客戶之需求調(diào)制出單晶和多晶及各種濃度能并廣泛應(yīng)用在各界精密加工領(lǐng)域，尤其是在光電材料及特殊硬脆材料上有著舉足輕重之地位。為了服務(wù)廣大客戶之精密加工要求，于1987年在橫濱總公司設(shè)立專業(yè)研磨拋光實驗室，配置各式先進(jìn)檢測儀器以及拋光設(shè)備以能夠量產(chǎn)為開發(fā)目的，并以集團(tuán)多年之累積經(jīng)驗基礎(chǔ)及搭配優(yōu)秀設(shè)備加以研究開發(fā)合適量產(chǎn)用且具有經(jīng)濟(jì)實惠之制程。
  
   拋光定盤是采用高分子樹脂材料及金屬粉末燒結(jié)而成高分子之復(fù)合盤，因為具有柔軟性，工件與鉆石磨粒接觸時會有緩沖性避免刮傷表面，且鉆石磨粒可附著固定在盤面使磨粒保持規(guī)律彈性形成固定磨料，并且可阻止產(chǎn)生摩擦熱之層流進(jìn)而避免造成工件晶界露出等狀況發(fā)生。因為有專業(yè)拋光之知識支持，得以在光電以及精密機(jī)械設(shè)備零組件等要求超精密度拋光質(zhì)量之產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重之地位。

應(yīng)用實績：
MR讀取磁頭、藍(lán)寶石基板、碳化硅基板、 光學(xué)鏡片、DWDM玻璃基板、CVD背板、鈮酸鋰(LiNbO3)基板、光盤模仁、LCD導(dǎo)光板模仁、LCD彩色濾光片涂布噴嘴、散熱片、氮化鋁(AlN)、靜電吸盤(ESC)、車燈模具(Reflector)、砷化鎵(GaAs)及氮化鎵(GaN)等。